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更新時間: 2024-04-23
產(chǎn)品型號: LFT1400C 800D802Z
所 在 地: 合肥市新站區(qū)穎河路22號
產(chǎn)品特點: ZnO納米材料生長設備,由氣體流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng),紅外烘干系統(tǒng)組成。
一、設備特點
碳納米膜制備設備由氣體質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng),紅外烘干系統(tǒng)等組成。生長爐的最高溫度1400℃,并可在0-1400℃之間連續(xù)可調(diào),垂直式分布熱場,三點控溫(三段長度平均分配),設備頂部設有注液口、導流器。爐體采用雙層殼體結構并帶有風冷系統(tǒng),保溫材料為加厚型,殼體表面溫度小于60℃。采用高純氧化鋁管作為爐膛材料,加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅碳棒。測溫采用適用于高溫環(huán)境的“S”型熱電偶,直接和式樣接觸,以提高控溫的精確性。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現(xiàn)連續(xù)生長不間斷的特點。
二、技術參數(shù)
型號 | LFT1400C 800D802Z |
額定功率 | 20KW(參考) |
額定電壓 | AC220V 50/60HZ |
最高溫度 | 1400℃ |
額定溫度 | 1300℃ |
推薦升溫速率 | 200℃以下≤5℃/min,200-1400℃以下≤10℃/min,1400℃到1600℃≤5℃/min |
爐管尺寸 (可根據(jù)客戶要求訂制) | Φ80× 1400mm(剛玉管) |
控溫精度 | ±1℃ |
極限真空度(選件) | 1.0×10-3Pa(機械泵+分子泵) |
加熱元件 | 硅碳棒 |
重量 | 230KG(參考) |