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十分鐘學(xué)會立式管式爐正確的操作方式
來源:技術(shù)文章    更新時間:2019-10-11    瀏覽:3118次
   立式管式爐爐體結(jié)構(gòu)
 
  1.采用高純氧化鋁作為爐膛材料,減小能量損失。
 
  2.爐管采用單端封口設(shè)計,頂端安裝有不銹鋼金屬法蘭,實驗可在真空和氣氛條件下完成。
 
  操作方式
 
  針對實驗室的使用要求,裝卸料采用間歇式手動裝、卸料。裝料時將料盒放置在料盆支架上,打開并取出爐管一端的密封端蓋,放入帶料盒的料盒支架,再將密封端蓋安裝在爐管法蘭上并擰緊卡箍螺栓。然后通入工藝氣氛,直到爐管內(nèi)氧含量達到工藝要求時進行升溫?zé)Y(jié)。產(chǎn)品燒結(jié)工藝完成后,應(yīng)繼續(xù)通人小量的工藝氣氛并進行降溫,直到爐內(nèi)溫度低于工藝要求時,方可打開爐管密封端蓋取出產(chǎn)品。
 
  立式管式爐的氣體流量控制系統(tǒng)。通過浮子或質(zhì)量流量控制器調(diào)節(jié)進氣量,以滿足用戶在不同反應(yīng)氣氛或保護氣氛條件下的實驗要求。
 
  組成的CVD系統(tǒng)主要應(yīng)用在新型材料測試,氧化鋅納米結(jié)構(gòu)的可控生長、熒光粉材料、金屬材料、半導(dǎo)體材料、陶瓷材料、電化學(xué)、薄膜材料、石墨烯、碳納米管、納米線等領(lǐng)域。產(chǎn)品外觀美觀,使用方便。
 
  適用范圍:
 
  立式管式氣氛爐主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室,應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
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